ニオブ-ジルコニウム 10% ターゲット Nb-10Zr は、約 90% の ニオブ と 10% の ジルコニウム からなる合金で作られたスパッタリング ターゲットです。ニオブは、物理蒸着法（PVD）プロセス、特にマグネトロンスパッタリングにおける重要な消耗材料であり、シリコンウェーハ、ガラス、金属部品などの基板の表面に特定の機能を備えたNb-10Zr 合金膜の層を堆積するために使用されます。ニオブとジルコニウムはどちらも反応性の高い金属ですが、その表面に緻密で安定した酸化膜（Nb2O5、ZrO2）が形成されるため、特に酸性環境において非常に高い耐腐食性を発揮します。
Nb-Zr10ターゲット材料を使用し、マグネトロンスパッタリング技術により、ジルコニウム合金被覆管の外表面に緻密なNb-10Zr膜を堆積しました。この膜は、高温高圧の水冷却剤中でのジルコニウム合金自体よりも数桁高い耐食性を備えています。極端な事故条件（冷却水喪失など）下では、このコーティングにより、ジルコニウム合金が高温蒸気（水素発生）との激しい酸化反応を起こすのを効果的に防ぎ、原子炉の安全性を大幅に向上させます。純粋なニオブ膜と比較して、Nb-10Zr膜は超伝導臨界電流密度が高く、機械的特性も優れているため、より厳しいアプリケーション要件を満たすことができます。これは現在、Nb-10Zrターゲット材料の最も最先端かつ重要な応用分野であり、需要がますます高まっています。
Nb-10Zrターゲット材料の製造方法は、通常、粉末冶金法または真空溶解＋鍛造／圧延法を採用してニオブジルコニウム合金インゴットを作製し、その後、機械加工（旋削、フライス加工）によって特定のサイズと形状のターゲット材料を製造します。ニオブジルコニウム合金は高価であるため、コストを削減し、良好な熱伝導性を確保するために、通常は比較的薄いターゲット材料を銅バックシートに接着します。スパッタリング装置の機種に合わせて、様々なサイズ（直径、長さ、厚さなど）と形状（平面ターゲット、回転ターゲット）をカスタマイズできます。
組成の均一性により、スパッタリング膜の組成が均一になります。微細で均一な粒子は、均一なスパッタリング速度と滑らかな膜表面を実現します。ニオブ-ジルコニウム10%スパッタリングターゲットは、最先端技術分野における「薄膜ソース」材料の一種です。固体部品の製造に使用されるのではなく、高度な表面工学技術により、優れた性能を持つNb-10Zr合金の薄膜を他の材料の表面に「複製」することで、原子燃料ケーシングやエンジンブレードなどの基材に、これまでにない耐腐食性、耐酸化性、高温安定性をもたらします。
